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任意偏置磁场中微波静磁波传播特性

武保剑

武保剑. 任意偏置磁场中微波静磁波传播特性[J]. 电子科技大学学报, 2006, 35(1): 29-31,39.
引用本文: 武保剑. 任意偏置磁场中微波静磁波传播特性[J]. 电子科技大学学报, 2006, 35(1): 29-31,39.
WU Bao-jian. Propagation Characteristics of Magnetostatic Waves Under Arbitrary Bias Magnetic Fields[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2006, 35(1): 29-31,39.
Citation: WU Bao-jian. Propagation Characteristics of Magnetostatic Waves Under Arbitrary Bias Magnetic Fields[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2006, 35(1): 29-31,39.

任意偏置磁场中微波静磁波传播特性

基金项目: 

国家自然科学基金资助项目(60401007)

详细信息
    作者简介:

    武保剑(1970-),男,博士,副教授,主要从事光器件、光通信技术与光网络方面的研究.

  • 中图分类号: O482.5

Propagation Characteristics of Magnetostatic Waves Under Arbitrary Bias Magnetic Fields

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出版历程
  • 收稿日期:  2004-04-28
  • 刊出日期:  2006-02-15

任意偏置磁场中微波静磁波传播特性

    基金项目:

    国家自然科学基金资助项目(60401007)

    作者简介:

    武保剑(1970-),男,博士,副教授,主要从事光器件、光通信技术与光网络方面的研究.

  • 中图分类号: O482.5

摘要: 研究了任意倾斜的直流偏置磁场作用下磁光薄膜中激发的微波静磁波传播规律,为下一步分析基于静磁波的磁光Bragg器件衍射性能提供基础。计算了YIG薄膜中传播的静磁正向体波特性,结果表明:在倾斜偏置磁场中沿不同方向激发的静磁波具有不同的辐射阻抗,这与垂直磁化情形明显不同;适当倾斜偏置磁场可降低静磁波的插入损耗,从而可增强静磁波对导波光的衍射效应。

English Abstract

武保剑. 任意偏置磁场中微波静磁波传播特性[J]. 电子科技大学学报, 2006, 35(1): 29-31,39.
引用本文: 武保剑. 任意偏置磁场中微波静磁波传播特性[J]. 电子科技大学学报, 2006, 35(1): 29-31,39.
WU Bao-jian. Propagation Characteristics of Magnetostatic Waves Under Arbitrary Bias Magnetic Fields[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2006, 35(1): 29-31,39.
Citation: WU Bao-jian. Propagation Characteristics of Magnetostatic Waves Under Arbitrary Bias Magnetic Fields[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2006, 35(1): 29-31,39.

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