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LiF和AgCl中四角的V2+中心的缺陷结构研究

高秀英 邬劭轶 魏望和 颜微子

高秀英, 邬劭轶, 魏望和, 颜微子. LiF和AgCl中四角的V2+中心的缺陷结构研究[J]. 电子科技大学学报, 2006, 35(4): 500-502,506.
引用本文: 高秀英, 邬劭轶, 魏望和, 颜微子. LiF和AgCl中四角的V2+中心的缺陷结构研究[J]. 电子科技大学学报, 2006, 35(4): 500-502,506.
GAO Xiu-ying, WU Shao-yi, WEI Wang-he, YAN We-izi. Investigations on the Defect Structures for the Tetragonal V2+ Centers in LiF and AgCl[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2006, 35(4): 500-502,506.
Citation: GAO Xiu-ying, WU Shao-yi, WEI Wang-he, YAN We-izi. Investigations on the Defect Structures for the Tetragonal V2+ Centers in LiF and AgCl[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2006, 35(4): 500-502,506.

LiF和AgCl中四角的V2+中心的缺陷结构研究

详细信息
    作者简介:

    高秀英(1981-),女,硕士,主要从事晶体中过度离子的光谱和EPR谱的理论研究.

  • 中图分类号: O737

Investigations on the Defect Structures for the Tetragonal V2+ Centers in LiF and AgCl

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出版历程
  • 收稿日期:  2005-01-24
  • 刊出日期:  2006-08-15

LiF和AgCl中四角的V2+中心的缺陷结构研究

    作者简介:

    高秀英(1981-),女,硕士,主要从事晶体中过度离子的光谱和EPR谱的理论研究.

  • 中图分类号: O737

摘要: 基于离子簇近似下四角场中3d3离子EPR参量的微扰公式,通过配位场方法对LiF和AgCl中四角V2+中心的缺陷结构和EPR参量进行了理论研究,提出V2+在LiF和AgCl中的缺陷结构模型,即处于杂质离子与C4轴方向上VC间的配体将由于VC的静电排斥作用而朝靠近杂质离子的方向上位移一段距离△Z。根据上述缺陷结构模型得到的EPR参量理论值与实验值吻合较好。

English Abstract

高秀英, 邬劭轶, 魏望和, 颜微子. LiF和AgCl中四角的V2+中心的缺陷结构研究[J]. 电子科技大学学报, 2006, 35(4): 500-502,506.
引用本文: 高秀英, 邬劭轶, 魏望和, 颜微子. LiF和AgCl中四角的V2+中心的缺陷结构研究[J]. 电子科技大学学报, 2006, 35(4): 500-502,506.
GAO Xiu-ying, WU Shao-yi, WEI Wang-he, YAN We-izi. Investigations on the Defect Structures for the Tetragonal V2+ Centers in LiF and AgCl[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2006, 35(4): 500-502,506.
Citation: GAO Xiu-ying, WU Shao-yi, WEI Wang-he, YAN We-izi. Investigations on the Defect Structures for the Tetragonal V2+ Centers in LiF and AgCl[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2006, 35(4): 500-502,506.

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