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等离子体隐身技术的研究

赵青 李宏福 任同 鄢阳 罗勇

赵青, 李宏福, 任同, 鄢阳, 罗勇. 等离子体隐身技术的研究[J]. 电子科技大学学报, 2004, 33(2): 142-145.
引用本文: 赵青, 李宏福, 任同, 鄢阳, 罗勇. 等离子体隐身技术的研究[J]. 电子科技大学学报, 2004, 33(2): 142-145.
Zhao Qing, Li Hongfu, Ren Tong, Yan Yang, Luo Yong. Study on Plasma Stealth Technology[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2004, 33(2): 142-145.
Citation: Zhao Qing, Li Hongfu, Ren Tong, Yan Yang, Luo Yong. Study on Plasma Stealth Technology[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2004, 33(2): 142-145.

等离子体隐身技术的研究

详细信息
    作者简介:

    赵青(1965-),男,博士,主要从事高功率微波及等离子体应用方面的研究.

  • 中图分类号: O539

Study on Plasma Stealth Technology

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出版历程
  • 收稿日期:  2003-07-09
  • 刊出日期:  2004-04-15

等离子体隐身技术的研究

    作者简介:

    赵青(1965-),男,博士,主要从事高功率微波及等离子体应用方面的研究.

  • 中图分类号: O539

摘要: 等离子体隐身是一种全新的隐身技术。建立等离子体隐身的基本模型,分别从折射效应和吸收衰减两方面论述了等离子体隐身的基本原理,通过理论分析和数值模拟,计算了电磁波等离子体中的衰减与等离子体碰撞频率、电磁波频率、等离子体厚度的关系。并对实现等离子体隐身进行研究,结果表明利用等离子体对雷达波隐身是可行的。

English Abstract

赵青, 李宏福, 任同, 鄢阳, 罗勇. 等离子体隐身技术的研究[J]. 电子科技大学学报, 2004, 33(2): 142-145.
引用本文: 赵青, 李宏福, 任同, 鄢阳, 罗勇. 等离子体隐身技术的研究[J]. 电子科技大学学报, 2004, 33(2): 142-145.
Zhao Qing, Li Hongfu, Ren Tong, Yan Yang, Luo Yong. Study on Plasma Stealth Technology[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2004, 33(2): 142-145.
Citation: Zhao Qing, Li Hongfu, Ren Tong, Yan Yang, Luo Yong. Study on Plasma Stealth Technology[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2004, 33(2): 142-145.

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