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提高雪崩击穿电压新技术——深阱终端结构

周蓉 胡思福 张庆中

周蓉, 胡思福, 张庆中. 提高雪崩击穿电压新技术——深阱终端结构[J]. 电子科技大学学报, 1999, 28(3): 259-261.
引用本文: 周蓉, 胡思福, 张庆中. 提高雪崩击穿电压新技术——深阱终端结构[J]. 电子科技大学学报, 1999, 28(3): 259-261.
Zhou Rong, Hu Sifu, Zhang Qinzhong. Deep Trench Termination-A New Technology for Improving Abalanche Breakdown Voltage[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1999, 28(3): 259-261.
Citation: Zhou Rong, Hu Sifu, Zhang Qinzhong. Deep Trench Termination-A New Technology for Improving Abalanche Breakdown Voltage[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1999, 28(3): 259-261.

提高雪崩击穿电压新技术——深阱终端结构

基金项目: 

四川省应用基础研究专项基金

详细信息
    作者简介:

    周蓉 女 29岁 博士生 讲师

  • 中图分类号: TN432

Deep Trench Termination-A New Technology for Improving Abalanche Breakdown Voltage

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出版历程
  • 收稿日期:  1998-10-14
  • 修回日期:  1998-12-03
  • 刊出日期:  1999-06-15

提高雪崩击穿电压新技术——深阱终端结构

    基金项目:

    四川省应用基础研究专项基金

    作者简介:

    周蓉 女 29岁 博士生 讲师

  • 中图分类号: TN432

摘要: 研究了深阱终端结构提高击穿电压的原理,模拟分析了阱中介质、阱深、阱宽及阱表面场板对击穿电压的影响。结果表明,带有场极的深阱终端结构可以提高击穿电压到平行平面结的90%。同时,深阱终端结构在不减小散热面积的情况下,还大大减小了结面积,减小了漏电流,有助于改善器件的频率特性,提高器件的稳定性。

English Abstract

周蓉, 胡思福, 张庆中. 提高雪崩击穿电压新技术——深阱终端结构[J]. 电子科技大学学报, 1999, 28(3): 259-261.
引用本文: 周蓉, 胡思福, 张庆中. 提高雪崩击穿电压新技术——深阱终端结构[J]. 电子科技大学学报, 1999, 28(3): 259-261.
Zhou Rong, Hu Sifu, Zhang Qinzhong. Deep Trench Termination-A New Technology for Improving Abalanche Breakdown Voltage[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1999, 28(3): 259-261.
Citation: Zhou Rong, Hu Sifu, Zhang Qinzhong. Deep Trench Termination-A New Technology for Improving Abalanche Breakdown Voltage[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1999, 28(3): 259-261.

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