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真空蒸发碲化物薄膜光电性能的研究

李燕 罗佳慧

李燕, 罗佳慧. 真空蒸发碲化物薄膜光电性能的研究[J]. 电子科技大学学报, 1997, 26(4): 394-397.
引用本文: 李燕, 罗佳慧. 真空蒸发碲化物薄膜光电性能的研究[J]. 电子科技大学学报, 1997, 26(4): 394-397.
Li Yan, Luo Jiahui. Investigation on Photoelectric Properties of Polycrystal Telluret Thin Films by Vacuum Deposition[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1997, 26(4): 394-397.
Citation: Li Yan, Luo Jiahui. Investigation on Photoelectric Properties of Polycrystal Telluret Thin Films by Vacuum Deposition[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1997, 26(4): 394-397.

真空蒸发碲化物薄膜光电性能的研究

详细信息
    作者简介:

    李燕 女 35岁 硕士 讲师

  • 中图分类号: TN304.25

Investigation on Photoelectric Properties of Polycrystal Telluret Thin Films by Vacuum Deposition

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出版历程
  • 收稿日期:  1997-03-11
  • 修回日期:  1997-05-20
  • 刊出日期:  1997-08-15

真空蒸发碲化物薄膜光电性能的研究

    作者简介:

    李燕 女 35岁 硕士 讲师

  • 中图分类号: TN304.25

摘要: 采用高温烧结和真空蒸发制备了CdTe光敏薄膜,探讨了制备工艺对CdTe薄膜性能和结构的影响,说明了在基片温度为130℃左右下制备的CdTe薄膜具有明显的光敏特性,并得到CdTe材料的禁带宽度为1.63eV。利用X衍射对不同基片温度下制备的CdTe薄膜材料进行了结构分析,发现基片温度为130℃左右时制备的CdTe薄膜具有明显的衍射峰。

English Abstract

李燕, 罗佳慧. 真空蒸发碲化物薄膜光电性能的研究[J]. 电子科技大学学报, 1997, 26(4): 394-397.
引用本文: 李燕, 罗佳慧. 真空蒸发碲化物薄膜光电性能的研究[J]. 电子科技大学学报, 1997, 26(4): 394-397.
Li Yan, Luo Jiahui. Investigation on Photoelectric Properties of Polycrystal Telluret Thin Films by Vacuum Deposition[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1997, 26(4): 394-397.
Citation: Li Yan, Luo Jiahui. Investigation on Photoelectric Properties of Polycrystal Telluret Thin Films by Vacuum Deposition[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1997, 26(4): 394-397.

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