留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

集成电路互连线电迁移建模综述

马建国 姚明 TAN Cher Ming

马建国, 姚明, TAN Cher Ming. 集成电路互连线电迁移建模综述[J]. 电子科技大学学报, 2009, 38(5): 495-504. doi: 10.3969/j.issn.1001-0548.2009.05.003
引用本文: 马建国, 姚明, TAN Cher Ming. 集成电路互连线电迁移建模综述[J]. 电子科技大学学报, 2009, 38(5): 495-504. doi: 10.3969/j.issn.1001-0548.2009.05.003
MA Jian-guo, YAO Ming, TAN Cher Ming. Review of Electromigration Modeling of IC Interconnects[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2009, 38(5): 495-504. doi: 10.3969/j.issn.1001-0548.2009.05.003
Citation: MA Jian-guo, YAO Ming, TAN Cher Ming. Review of Electromigration Modeling of IC Interconnects[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2009, 38(5): 495-504. doi: 10.3969/j.issn.1001-0548.2009.05.003

集成电路互连线电迁移建模综述

doi: 10.3969/j.issn.1001-0548.2009.05.003
基金项目: 

国家自然科学基金(NSFC60688101);国家111工程

详细信息
    作者简介:

    马建国(1961-),男,长江学者特聘教授,主要从事射频、微波、毫米波电路与系统,集成系统芯片(SoC)设计与验证方面的研究

  • 中图分类号: TN47

Review of Electromigration Modeling of IC Interconnects

计量
  • 文章访问数:  3703
  • HTML全文浏览量:  128
  • PDF下载量:  203
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2009-06-05
  • 刊出日期:  2009-10-15

集成电路互连线电迁移建模综述

doi: 10.3969/j.issn.1001-0548.2009.05.003
    基金项目:

    国家自然科学基金(NSFC60688101);国家111工程

    作者简介:

    马建国(1961-),男,长江学者特聘教授,主要从事射频、微波、毫米波电路与系统,集成系统芯片(SoC)设计与验证方面的研究

  • 中图分类号: TN47

摘要: 简要介绍了集成电路互连线建模发展的历史。回顾了曾广泛使用的一维电迁移引起的回流模型。基于原子通量散度的概念,电迁移建模可以分为两种方法。一种是常用的扩散路径法,该方法能够解释传统的铝片上金属互连的许多重要电迁移现象。然而,随着芯片尺寸越来越小,工业界为了追求更好的性能,转向了使用铜/低k组合作为互连材料,同时引进了三维集成电路技术。顺应这种趋势,第二种驱动力电迁移建模方法发展了起来,该方法有助于人们理解窄互连工艺中的许多现象。有限元模拟也越来越多地用于驱动力分析法。

English Abstract

马建国, 姚明, TAN Cher Ming. 集成电路互连线电迁移建模综述[J]. 电子科技大学学报, 2009, 38(5): 495-504. doi: 10.3969/j.issn.1001-0548.2009.05.003
引用本文: 马建国, 姚明, TAN Cher Ming. 集成电路互连线电迁移建模综述[J]. 电子科技大学学报, 2009, 38(5): 495-504. doi: 10.3969/j.issn.1001-0548.2009.05.003
MA Jian-guo, YAO Ming, TAN Cher Ming. Review of Electromigration Modeling of IC Interconnects[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2009, 38(5): 495-504. doi: 10.3969/j.issn.1001-0548.2009.05.003
Citation: MA Jian-guo, YAO Ming, TAN Cher Ming. Review of Electromigration Modeling of IC Interconnects[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 2009, 38(5): 495-504. doi: 10.3969/j.issn.1001-0548.2009.05.003

目录

    /

    返回文章
    返回