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有限尺寸介质基片上的共面带线

阮成礼

阮成礼. 有限尺寸介质基片上的共面带线[J]. 电子科技大学学报, 1999, 28(4): 366-370.
引用本文: 阮成礼. 有限尺寸介质基片上的共面带线[J]. 电子科技大学学报, 1999, 28(4): 366-370.
Ruan Chengli. Coplanar Strip Line on Substrate with Finite Dimensions[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1999, 28(4): 366-370.
Citation: Ruan Chengli. Coplanar Strip Line on Substrate with Finite Dimensions[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1999, 28(4): 366-370.

有限尺寸介质基片上的共面带线

详细信息
    作者简介:

    阮成礼 男 55岁 教授 博士导师

  • 中图分类号: TN015;TN811

Coplanar Strip Line on Substrate with Finite Dimensions

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出版历程
  • 收稿日期:  1999-05-14
  • 刊出日期:  1999-08-15

有限尺寸介质基片上的共面带线

    作者简介:

    阮成礼 男 55岁 教授 博士导师

  • 中图分类号: TN015;TN811

摘要: 讨论了厚度和宽度都为有限尺寸的介质基片上共面带线的基本参数;有限尺寸介质基片上的共面带线是一种非常接近于工程应用状态的物理模型。用共形映射技术分析这种共面带线,得到了单位长度电容、有效介电常数和特性阻抗等基本参数;与介质基片宽度为无限大的理想化模型作了比较;给出了以无限宽介质基片共面带线作近似模型,介质基片宽度变化所产生的误差;讨论了多层有限尺寸介质基片上的共面带线

English Abstract

阮成礼. 有限尺寸介质基片上的共面带线[J]. 电子科技大学学报, 1999, 28(4): 366-370.
引用本文: 阮成礼. 有限尺寸介质基片上的共面带线[J]. 电子科技大学学报, 1999, 28(4): 366-370.
Ruan Chengli. Coplanar Strip Line on Substrate with Finite Dimensions[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1999, 28(4): 366-370.
Citation: Ruan Chengli. Coplanar Strip Line on Substrate with Finite Dimensions[J]. Journal of University of Electronic Science and Technology of China, 1999, 28(4): 366-370.

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